鈦管靶
為了減少鈦管靶中的氣孔,加強(qiáng)濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。靶的密度不但影響濺射速率,而且影響薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶密度越高,薄膜性能越好。另外,加強(qiáng)靶材的密度和強(qiáng)度可以使靶材可以承受濺射過程中的熱應(yīng)力。密度也是目標(biāo)的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。
通常目標(biāo)材料是多晶結(jié)構(gòu),晶粒尺寸可以從微米到毫米。對于鈦管靶,小晶粒靶材的濺射速率比大晶粒靶材快,而小晶粒差靶材(均勻分布)沉積的薄膜厚度分布比較均勻。